改进的抛光垫及其抛光方法

Improved polishing pads and methods relating thereof

Abstract

本发明涉及用于制造半导体装置或类似物中使用的改进的抛光垫。本发明的抛光垫具有亲水抛光材料的优点并且足够薄,通常用来改善可预知性和抛光效果。

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