Stripping agent against photoresist residues

光刻胶残渣去除剂

Abstract

本发明提供一种无毒、没有危险的光刻胶残渣去除剂,能进行光刻胶残渣的去除而没有金属腐蚀或其它问题并且具有安全性。所述去除剂是一种含有磷酸铵和/或缩聚磷酸铵的水溶液,pH值在1-10范围内。

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