Organic removal process

去除有机物的方法

Abstract

本发明揭示了一种去除光致抗蚀剂的改进了的方法,在该方法中用臭氧和碳酸氢盐或其它合适的自由基清除剂的处理用溶液来处理电子器件用的基片。该方法特别适合于在基片表面上存在某些金属(如铝、铜以及它们的氧化物)的情况下去除光致抗蚀剂。该方法还适用于去除其它有机物。

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